테스, 실리콘 산화막 건식 식각 방법 특허권 취득
2010.12.10 13:44
수정 : 2010.12.10 13:44기사원문
테스측은 "반도체식각장비와 관련된 것으로 이 특허기술을 장비 제조 및 개발에 활용해 기술경쟁력 및 원가경쟁력을 향상시킬 계획이다"고 전했다.
/pio@fnnews.com 박인옥기자