켐트로닉스, 99.999% 업계 최고 수준 순도 EUV PR용 원료 국산화 성공 소식에 강세

[파이낸셜뉴스]켐트로닉스가 해외 의존도가 높은 반도체 극자외선(EUV) 공정 핵심 용제 개발에 성공했다는 소식에 강세다. 켐트로닉스는 일본이 수출 규제한 품목 중 하나인 '포토레지스트(PR)' 제조에 꼭 필요한 원료를 업계 최고 수준 순도로 구현했다.

8일 오전 9시 현재 켐트로닉스는 전 거래일 대비 2400원(8.35%) 오른 원에 거래 중이다.

전날 켐트로닉스는 반도체와 디스플레이 제조 공정 핵심 용제인 초고순도 'PGMEA'를 개발했다고 밝혔다. PGMEA는 반도체 노광 공정에 활용되는 PR 원료의 70~80%를 차지하는 주요 용제다.

지금까지 일본과 중국 등에서 수입해 왔다.

켐트로닉스가 국산화한 PGMEA는 99.999%(5N) 초고순도를 자랑한다. 현재 PR에 적용되는 PGMEA는 대부분 99.994~99.996%으로 완벽한 5N에는 미치지 못한다. 초고순도 용제는 EUV PR 개발에 꼭 필요하다. 켐트로닉스는 PGMEA 국산화로 고객사 EUV PR 개발에도 탄력이 붙을 것으로 기대했다.

인체 유해 물질인 베타이성질체를 최소화해 친환경 요소를 극대화한 것도 특징이다. 현재 유통되는 PGMEA는 베타이성질체 함량이 100~300ppm 정도다. 켐트로닉스는 PGMEA의 생체 독성을 줄이기 위해 베타이성질체 농도를 1ppm 밑으로 낮추는 데 성공했다.

김보균 켐트로닉스 대표는 “글로벌 기업들이 유해물질로 분류되는 베타이성질체 함량을 10ppm 미만으로 낮출 것을 요구해왔다”면서 “연구개발과 설비 투자를 본격 진행, 3년 만에 세계 최초 1ppm 미만 친환경 PGMEA 기술 개발과 사업화에 성공했다”고 밝혔다.

켐트로닉스는 초고순도 PGMEA 제조 기법과 이성질체 제거 방법 등에 관한 특허를 출원 중이다. 초고순도·친환경 PGMEA 양산을 위해 대규모 투자도 단행한다.

올해에만 200억원을 투입, 양산 라인을 구축할 예정이다.

[e-mail] 김민기 기자