한국알콜, 바이든 방한 이후 주목 받는 까닭은?

[파이낸셜뉴스] 최근 방한한 바이든 미국 대통령이 첫 일정으로 삼성전자 평택 반도체 공장을 방문하면서 미래반도체 먹거리 핵심인 EUV(극자외선)에 대한 관심이 높다.

30일 재계 등 업계에 따르면 오는 9월 생산 시작하는 삼성전자 평택 캠퍼스(P3)에는 EUV(극자외선) 공정을 적용한 10nm급 D램, 176단 이상의 7세대 V낸드 등 최첨단 메모리 공정과 3nm급 EUV 파운드리 공정이 복합적으로 구축된다.

이에 따라 증권가에서는 EUV를 적용하기 위해 필요한 핵심 소재 관련주 찾기가 한창인 가운데 한국알콜에도 관심이 집중되고 있다.

EUV공정 핵심 소재 중 △불화수소 △PGMEA(반도체용세정액) △EEP(전자급에탄올) 등 3가지 분야에 모두 한국알콜그룹과 직간접적으로 관련이 있는 것으로 알려져서다.

우선 PGMEA(프로필렌글리콜 메틸에테르 아세트산)는 반도체용 시너(thinner)로 제조돼 EUV 노광 공정에서 극자외선 감광 반응이 일어나지 않은 부분에 묻은 감광물질(포토레지스트)을 씻어 내는 역할을 한다.

또, 노광공정에 들어가기 전 웨이퍼에 바르면 감광물질을 더 적게 써도 고르게 펴지도록 돕는다. EUV 공정용 PGMEA는 5N으로 불리는 99.999% 이상의 초고순도로 제조된다. PGMEA는 한국알콜의 자회사 ㈜신디프(지분율:약70%)에서 고순도로 정제하며, 이는 포토레지스트 원료의 60~70%에 사용된다. 포토레지스트는 ‘감광액’으로도 불리는 반도체 노광 공정 핵심 소재다.

특히 신디프는 반도체 포토레지스트 세정액으로 잘 알려진 EEP(에틸3 에폭시 프로피오네이트)도 생산하고 있다. 한국알콜그룹에 따르면 EEP(Ethyl 3-Ethoxypropionate)는 신디프가 2017년부터 주력 생산중이며 점차 실적 급증 추세에 있는 것으로 알려졌다.

이와 더불어 불화수소는 반도체 제조 공정 중 웨이퍼의 불필요한 부분을 긁어 내 주는 ‘식각 공정’과 불순물과 잔류물을 씻어 내는 ‘세정 공정’에서 사용되는데 한국알콜이 대주주(지분 26.13%)로 있는 이엔에프테크놀로지에서 생산중이다.

한편 1984년 설립한 한국알콜은 화학제품 및 주정 등의 제조, 판매 목적으로 설립됐다. 국내 유일의 공업용 에탄올, 초산에틸, 초산부틸, 전자급 무수주정 생산업체이며 지속적인 연구개발로 초고순도 에탄올과 초고순도 아세트산을 개발,생산하고 있다.

회사 관계자는 “현재 한국알콜의 초고순도 초산에틸, 이차전지용 전자급 초산부틸 등은 지속적인 수요 확대되고 있다”며 “초산부틸은 이차전지 전해질 불순물 제거에 세척용으로 최근 급부상 중이며 천보에 납품 중”이라고 전했다.

[e-mail] 김경아 기자