인텔 "인텔 3 기술로 최첨단 파운드리 노드 제공.. 공정 리더십 회복"

인텔은 20일(현지시간) 연례 VLSI 심포지엄에서 인텔 3 기술로 최첨단 파운드리 노드를 제공함으로써 공정 리더십을 회복하고 있다고 밝혔다.

인텔 측은 "인텔 파운드리는 혁신적인 기술을 활용해 무어의 법칙을 계승하며 고객이 새로운 애플리케이션 개발을 위해 더 큰 역량을 발휘할 수 있도록 최선을 다하고 있다"며 "인텔은 2005년 스트레인드 실리콘, 2009년 하이케이(Hi-K) 메탈 게이트, 2011년 핀펫(FinFET) 아키텍처로 트랜지스터를 3차원으로 구현하는 등 수십년 동안 주요 전환점에서 트랜지스터 기술을 통해 업계를 선도해 왔으며, 현재 AI 및 슈퍼컴퓨터와 같은 미래를 뒷받침할 새로운 트랜지스터 혁신을 지속적으로 이끌고 있다"고 밝혔다.

인텔은 최첨단 핀펫 기반 노드인 인텔 3 공정 노드에 대한 세부 정보도 공개했다.

기본 인텔 3 공정 노드는 전체 프로세서 코어에서 동일한 전력으로 최대 18% 더 나은 성능을 제공하며, 유연한 메탈 인터커넥트 옵션 세트와 이전 세대인 인텔 4 노드에 비해 최대 10% 더 높은 집적도를 제공한다. 이는 한 세대 전체에 걸친 성능 개선이 이뤄진 것으로, 불과 1년 만에 놀라운 진전을 이룬 것이다.

트랜지스터부터 메탈 스택에 이르기까지 공정의 모든 측면에서 세심한 최적화를 통해 이를 달성할 수 있었다. 이 같은 집적도 향상은 인텔이 개발한 새로운 고집적도 표준 셀 라이브러리로 가능해졌다.

2021년에 인텔은 공정 기술 리더십을 회복하기 위해 대담한 마일스톤 일환으로 4년간 5개 노드 달성(5N4Y)을 목표로 설정했다. 5N4Y 로드맵은 기술 리더십을 회복하고 신중하고 체계적인 리스크 감수를 통해 일관된 실행을 입증하는 데 중점을 두고 있다. 또한 파운드리 고객에게 폭넓은 설계, 패키징 및 제조 역량을 제공하도록 회사를 혁신해 업계 전반을 발전시키는 것을 목표로 하고 있다.

결과적으로 인텔 3 기술은 최첨단 핀펫 공정 노드 시리즈를 제공하고 인텔 4 노드보다 10% 더 높은 집적도와 한 세대 앞선 성능을 제공한다는 것이 인텔 측 설명이다. 인텔 3 노드는 지난해 4·4분기에 제조 준비에 도달했으며 현재 인텔 제온 6 프로세서 제품군을 위해 대량 생산하고 있다.

인텔은 5N4Y 계획에 대한 실행 약속을 일관되게 이행하고 있으며 인텔 20A 및 인텔 18A 공정 노드와 함께 리본펫 및 옹스트롬 시대로 전환하기 위한 기반을 마련하고 있다고 덧붙였다.

[e-mail] 구자윤 기자