테스, 실리콘 산화막 건식 식각 방법 특허권 취득

테스는 반도체 제조 장비 및 이를 이용한 실리콘 산화막 건식 식각 방법에 대한 특허권을 취득했다고 10일 공시했다.

테스측은 "반도체식각장비와 관련된 것으로 이 특허기술을 장비 제조 및 개발에 활용해 기술경쟁력 및 원가경쟁력을 향상시킬 계획이다"고 전했다.

/[e-mail] 박인옥기자