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본 특허는 전사공정 없이 기판 상에 결정성이 우수한 고품질의 단일막 그래핀 박막을 제조하는 실질적인 방법이다. 표적 기판 위에 티타늄 촉매층을 형성하는 단계, 상기 티타늄 촉매층 위에 그래핀 박막을 성장시키는 방법으로 기존 열분해 기상증착방법(Thermal CVD)과 더불어 플라즈마 기상증착방법(PAT-CVD)을 사용하는 고효율 방법을 설명하고 있다. 특허 보정단계에서 여러 인용발명과 수치상으로 명확하게 차별성을 나타내는 등 독자적인 단일막 그래핀 제조 방법이다.
회사 관계자는 “저온 무전사 그래핀 제조기술에 관한 국내외 특허 다수를 보유해 독창적인 제조 기술을 토대로 반도체, 투명전극 등 향후 다양한 활용분야에 응용 및 기술개발 가능성을 높게 내다보고 있다”고 말했다.
한편, 국일그래핀은 그래핀 박막 양산기술 관련된 기술특허 8건을 진행 중이다. 그 중 이미 5건이 등록됐고 3건은 출원 중이다. 국내 출원 중인 특허들은 해외 출원도 동시에 진행중이라고 회사 측은 설명했다.
dschoi@fnnews.com 최두선 기자
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