캐논, 5천억 규모 반도체 노광장비 신공장 건설

21년 만에 신공장 건설 발표
2025년 현재 생산능력 2배 ↑
ASML 독점 구도에 승부수

캐논 노광장비. 사진=캐논 홈페이지

【도쿄=김경민 특파원】 일본 캐논이 500억엔(약 5000억원)을 투자해 반도체 노광장비 신공장을 짓는다. 캐논이 노광장비 신공장을 건설하는 것은 21년 만이다. 향후 늘어날 반도체 칩 제조 수요에 발맞춰 2025년 신공장을 가동시키고, 현재 노광장비 생산능력의 두배까지 끌어올릴 계획이다.

5일 니혼게이자이신문에 따르면 캐논은 도치기현 우쓰노미야 공장 내 7만㎡ 부지에 반도체 노광장비를 생산하는 신공장을 건설할 예정이다. 노광이란 반도체 웨이퍼에 빛으로 회로를 새기는 작업으로, 최첨단 미세공정의 핵심 기술이다.

캐논은 현재 우쓰노미야와 이바라키현 아미마치 등 2개의 거점에서 노광장비를 생산하고 있다. 2023년에 신공장 착공을 시작해 2025년 봄까지 노광장비 생산 능력을 현재의 두배로 증가시킬 방침이다. 공장 건설 비용과 생산 설비를 포함한 총 투자액은 500억엔 중반대가 될 것으로 보인다.

캐논은 올해 반도체 노광장비 판매 대수를 지난해보다 29% 증가한 180대로 전망하고 있다. 이는 최근 10년 사이 4배 증가한 규모다.

세계반도체시장통계기구(WSTS)에 따르면 세계 반도체 시장은 지난해 5000억달러를 넘어섰고 2030년에는 1조달러에 이를 것으로 예측된다. 캐논의 반도체 노광장비 시장 점유율은 30%로, 네덜란드 ASML(60%)에 이은 세계 2위다.

아울러 캐논은 ASML을 추격하기 위해 '나노 임프린트'이라는 기술을 활용한 차세대 장비 개발도 추진한다. 도장을 찍듯이 웨이퍼 위에 회로를 찍어내는 기술로, 기존보다 낮은 비용으로 미세회로를 새길 수 있는 것이 특징이다. 캐논, 키옥시와, 대일본인쇄 등이 기술 개발을 협력 중이다.

삼성전자와 대만 TSMC 등의 최첨단 반도체를 만들어내기 위해선 극자외선(EUV) 노광장비가 필수이다.

다만 현재 거의 독점인 ASML의 EUV 노광장비는 1대당 200억엔(2000억원)에 육박하는 고가인 데다 소비 전력도 커 업체들의 부담이 만만찮다. 이에 비해 나노 임프린트 노광장비는 최대 40%의 제조 비용과, 90%의 소비전력을 아낄 수 있다는 게 캐논의 설명이다.

닛케이는 "캐논은 나노 임프린트의 판매를 확대해 ASML의 시장지배력을 무너뜨리는 것을 목표로 한다"고 전했다.

[e-mail] 김경민 기자