[특징주] 국일제지, 삼성 EUV 펠리클 도입 추진.. 꿈의소재 그래핀 펠리클 개발 ↑

삼성전자가 이르면 연내 극자외선(EUV) 노광 공정에 '펠리클'을 투입할 전망이 나오면서 국일제지의 자회사 국일그래핀이 그래핀 펠리클(Pellicle) 부품 개발을 추진 글로벌 기업과 협력 중인 국일제지(078130)가 강세다.

펠리클은 노광공정 중 발생할 수 있는 마스크(반도체 회로가 그려진 판) 오염을 방지하는 부품이다. EUV가 최근 도입된 기술이다보니 삼성전자는 EUV용 펠리클을 그간 사용하지 않았는데, 곧 새로운 소재부품 수요가 창출될 것으로 예상된다.

23일 업계에 따르면 현 EUV 장비에 펠리클을 적용할 방침을 세운 것으로 파악됐다. 일각에서 삼성전자가 차기 EUV 장비인 '하이 NA'부터 펠리클을 활용할 것이란 관측이 제기됐지만 현재의 EUV 양산 라인에 펠리클을 적용할 계획이다.

이 사안에 정통한 업계 관계자는 “EUV 펠리클을 도입하면 공정 속도가 늦어져 삼성전자가 도입을 망설였던 것으로 안다”며 “그러나 최근 투과율 등 펠리클 성능이 개선되고 있어 현재 EUV 양산 라인부터 적용하기로 방침을 정했다”고 전했다.

삼성전자는 이에 자체 개발과 동시에 국내 기업들과 협력하며 EUV 펠리클 다변화를 추진했다. 성과들이 가시화돼 적용 계획을 세우고 있는 것으로 풀이된다.

한편 국일그래핀은 지난해 그래핀 펠리클 부품 개발을 추진한다는 발표에 이어 투과율 85%이상 가능한 기술 개발 성과를 위해 연구중이라고 알려져있어 투자자들의 관심이 몰린 것으로 풀이된다.